Nome del prodotto: Allumina calcinata a piastre
Introduzione alla produzione
La polvere di allumina calcinata a piastre per lucidatura è realizzata a partire da polvere di allumina industriale di alta qualità come materia prima e lavorata mediante uno speciale processo produttivo. La forma cristallina della polvere di allumina prodotta è esagonale, piatta e tabulare, da cui il nome di allumina piastrinica o allumina tabulare.
La purezza dell’allumina della piastra di allumina è superiore al 99% e presenta caratteristiche di resistenza al calore, resistenza alla corrosione da acidi e alcali e un’elevata durezza. A differenza delle tradizionali particelle abrasive sferiche, la superficie inferiore dell’allumina piatta è piatta e le particelle si adattano alla superficie del pezzo durante la rettifica, producendo un effetto di levigatura scorrevole che evita che gli angoli taglienti delle particelle graffino la superficie del pezzo. D’altra parte, durante la rettifica della piastra di allumina, la pressione di rettifica è distribuita uniformemente sulla superficie delle particelle, che non si rompono facilmente e la resistenza all’usura è migliorata, migliorando così l’efficienza di rettifica e la finitura superficiale.
Per materiali semiconduttori come i wafer di silicio semiconduttore, l’applicazione di ossido di alluminio a piastre può ridurre i tempi di rettifica, migliorarne notevolmente l’efficienza, ridurre le perdite della rettificatrice, risparmiare manodopera e costi di rettifica e aumentare la velocità di passaggio. La qualità è simile a quella di noti marchi esteri.
L’efficienza del lavoro di molatura del bulbo di vetro del tubo catodico aumenta di 3-5 volte;
Il tasso di prodotti qualificati aumenta del 10-15% e il tasso di prodotti qualificati di wafer semiconduttori raggiunge oltre il 99%;
Il consumo di macinazione è inferiore del 40-40% rispetto alla normale polvere di lucidatura in allumina;
Composizione chimica
| Chimico | Valore di garanzia | Valore tipico |
| Al2O3 | ≥99,0% | 99,36% |
| SiO2 | <0,2% | 0,017% |
| Fe2O3 | <0,1% | 0,03% |
| Na2O | <0,6% | 0,35% |
Proprietà fisiche
| Materiale | α-Al2O3 |
| Colore | Bianco |
| Peso specifico | ≥3,9 g/cm3 |
| Durezza di Mohs | 9.0 |
Taglie disponibili
| Tipo | D3(um) | D50 (uno) | D94 (circa) |
| HXTA45 | 50,5-56,2 | 33-38,5 | 20,7-24,5 |
| HXTA40 | 39-44,6 | 27.7-31.7 | 18-20 |
| HXTA35 | 35,4-39,8 | 23.8-27.2 | 15-17 |
| HXTA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13.4-15.6 |
| HXTA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
| HXTA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
| HXTA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5.8-6.8 |
| HXTA12 | 11.8-13.8 | 7,6-8,8 | 4,5-5,3 |
| HXTA09 | 8,9-10,5 | 5.9-6.9 | 3.3-3.9 |
| HXTA05 | 6,6-7,8 | 4.3-5.1 | 2,55-3,05 |
| HXTA03 | 4,8-5,6 | 2.8-3.4 | 1,5-2,1 |
Applicazione del prodotto
1) Industria elettronica: levigatura e lucidatura di wafer di silicio monocristallino semiconduttore, cristalli di quarzo, semiconduttori composti (gallio cristallino, nano fosfatazione).
2) Industria del vetro: molatura e lavorazione del cristallo, vetro di quarzo, schermo in vetro per cinescopi, vetro ottico, substrato in vetro per display a cristalli liquidi (LCD) e cristallo di quarzo.
3) Industria dei rivestimenti: rivestimenti e riempitivi speciali per spruzzatura al plasma.
4) Industria di lavorazione dei metalli e della ceramica: materiali ceramici di precisione, materie prime ceramiche sinterizzate, rivestimenti di alta qualità per alte temperature, ecc.
